中微公司迎来科创板上市五周年

在科创板开市五周年之际，中微周年中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，公司上交所股票代码：688012）也迎来了上市五周年。迎科作为科创板首批上市的创板25家企业之一，依托强大的上市政策与资金支持，中微公司坚持高质量发展，中微周年在技术进步、公司业务发展、迎科业绩增长、创板规范治理等方面扎实推进，上市综合竞争力持续提升，中微周年取得了一系列突破性进展与成果。公司

董事长寄语

尹志尧

中微公司董事长、迎科总经理

截至2024年6月，创板公司累计已有5164 个反应台在国内外131条生产线实现量产和大规模重复性销售；

截至2024年6月，上市公司已申请2648项专利，其中发明专利2224项；

截至2024年6月，公司员工2085人，其中研发人员占46.38%，同比2019年，员工人数增长188%；

2023年公司营业收入和归母净利润均创历史新高，分别达到62.64亿元和17.86亿元，是2019年销售额和利润的3倍和9倍；

累计荣获科学技术、客户满意度、知识产权、质量认证等领域的百余项知名奖项，连续多年在美国TechInsights全球客户满意度评比中名列前茅。

聚焦集成电路关键设备

持续提升产品创新能力

中微公司高度重视核心技术的创新，始终强调创新和差异化并保持高强度的研发投入，致力于开发高端微观加工设备，通过打造具有国际竞争力的技术创新与差异化产品，为客户和市场提供性能优越、高生产效率和高性价比的设备解决方案。截至2024年6月，公司累计已有5164个反应台在国内外131条生产线，全面实现了量产和大规模重复性销售，赢得了众多客户和供应厂商的信任和支持。

凭借行业首创的刻蚀设备双台机技术，中微公司率先提出“皮米级”加工精度概念，其刻蚀精度已经达到100“皮米”以下水平，相当于头发丝350万分之一的精准度，并且产品具备刻蚀应用覆盖丰富等优势，能够满足90%以上的刻蚀应用需求，技术能力已覆盖5纳米及以下更先进水平。公司2023年新增订单金额约83.6亿元，同比增长约32.3%，其中刻蚀设备新增订单约69.5亿元，同比增长约60.1%。

中微公司持续加码创新研发，在半导体薄膜沉积设备领域不断突破，推出了Preforma Uniflex CW、Preforma Uniflex HW、Preforma Uniflex AW等多款新产品以满足市场需求，为公司业务多元化发展提供了强劲的增长动能。此外，公司新开发的硅和锗硅外延EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多款新产品，也会在近期投入市场验证。

在MOCVD技术方面，中微公司自推出第一代MOCVD设备PRISMO A7以来，不断丰富产品线且快速升级迭代，目前在Mini LED等氮化镓基设备领域，中微公司的市场占有率稳居前列，并持续开发用于氮化镓、碳化硅等功率器件及Micro-LED器件制造的MOCVD设备。此外，中微公司还通过投资布局了第四大设备市场——光学检测设备。

夯实科技创新根基

为高质量发展蓄势发力

中微公司上市后，高效运用募集资金，持续创新增效、精益运营，与客户及合作伙伴协作共赢，实现了产品订单及销售额的稳步提升。在2023年，公司营业收入和归母净利润均创历史新高，分别达到62.64亿元和17.86亿元，是2019年销售额和利润的3倍和9倍。

登陆科创板后，中微公司持续推动落实以研发创新为驱动的高质量增长策略，保持高水平的研发投入。2023年，中微公司在研发领域的投入高达12.62亿元，同比增长35.89%，研发投入占公司总收入的比例为20.15%。截至2024年6月，公司累计申请专利已达2648项，已获授权专利1670项，其中发明专利占比高达85.87%。

中微公司汇聚全球经验丰富的半导体设备人才，并为其提供广阔的职业发展空间，构建专业线、管理线发展双通道，并通过内容丰富的职业培训为人才成长营造良好的环境。上市后，中微公司实施了基本覆盖全员的第二类限制性股票激励计划，激发了团队活力，保证了核心技术团队的稳定性和持续性。截至2024年6月，中微公司的全球员工总数已达到2085人，其中研发人员占比接近半数，高达46.38%，研发人员中，硕士及博士研究生的比例达50.98%，为公司的技术创新提供了坚实的人才保障。

2023年，公司位于南昌的生产研发基地正式投入运营，上海临港的生产和研发基地目前也已部分启用，位于临港滴水湖畔的总部大楼的建设工作也在稳步推进中。不久之后，中微公司的厂房和办公楼总面积将达到45万平方米，为公司进一步扩充高端设备产能、提升公司研发能力和科技创新水平奠定了坚实的基础。中微公司秉持绿色发展理念，明确了2035年实现自身碳中和的目标，利用先进厂务管理系统打造智能工厂，建设智能化仓库，通过不断探索实践，积极应对气候变化，助力国家“双碳”目标实现。

新起点续征程

打造国际领先的平台型企业

中微公司坚持自主创新，厚积薄发，在科学技术、客户满意度、知识产权、质量认证等领域获得众多赞誉，累计荣获百余项知名奖项。在美国TechInsights全球客户满意度调查中，中微公司连续多年排名位居前列，2023年荣获“上海市科技进步一等奖”，并多次入选福布斯中国最具创新力企业50强榜单。中微公司的先进设备产品在众多不同领域彰显出了“中国智造”与“中国质造”的强大竞争力，两次荣获“中国专利金奖”，多次荣获“中国专利优秀奖”、“上海市发明创造专利奖”、“上海市知识产权创新奖”等奖项。

2024年，证监会发布了《关于深化科创板改革服务科技创新和新质生产力发展的八条措施》，更好地为科技创新和新质生产力发展提供服务。中微公司也借此之际，将上市五周年作为新起点，继续坚持三维发展战略，在持续聚焦集成电路关键设备领域、继续扩展传感器、发光二极管LED、微显示、太阳能电池、功率器件等泛半导体关键设备领域的基础上，不断探索公司核心技术在其他新兴领域和国计民生上的发展机会。此外，作为国内领先的高端微观加工设备公司，中微公司将整合产业链上下游和相关资源作为另一发力点，希望凭借充分发挥自身的行业影响力、聚集力 ，积极推动一批国内外领先的半导体设备、材料和关键零部件配套企业协同发展，共同打造企业创新联合体，逐步形成产业集群。

展望未来，中微公司将继续秉承并深化“四个十大”的企业文化，即“产品开发十大原则”、“战略销售十大准则”、“营运管理十大章法”以及“精神文化十大作风”。同时，公司坚定执行三维发展战略，携手产业链上下游合作伙伴，瞄准全球科技的最前沿，持续推动创新与突破，实现高速、稳定、健康和安全的高质量发展，力争成为国内外一流的半导体设备和高科技领先企业！

关于中微半导体设备（上海）股份有限公司

中微半导体设备（上海）股份有限公司（证券简称：中微公司，证券代码：688012，英文简称：AMEC）致力于为全球集成电路和LED芯片制造商提供领先的加工设备和工艺技术解决方案。中微公司开发的等离子体刻蚀设备和化学薄膜设备是制造各种微观器件的关键设备，可加工微米级和纳米级的各种器件。这些微观器件是现代数码产业的基础，它们正在改变人类的生产方式和生活方式。中微公司的等离子体刻蚀设备已被广泛应用于国际一线客户先进工艺的众多刻蚀应用，中微公司开发的用于LED和功率器件外延片生产的MOCVD设备已在客户生产线上投入量产，目前已在全球氮化镓基LED MOCVD设备市场占据优势地位。

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